单项选择题
二氧化硅可以用作扩散掩蔽膜的原因是（）
A.杂质在二氧化硅中的扩散系数远小于其在硅中的扩散系数B.杂质在二氧化硅中的扩散系数等于其在硅中的扩散系数C.杂质硅中的扩散系数远小于其在二氧化硅中的扩散系数D.杂质在二氧化硅中不扩散
单项选择题 集成电路制造工艺中，制备二氧化硅的方法有（）
单项选择题 硅氧四面体由（）组成。
单项选择题 超高真空的简称是（）
