多项选择题
下列哪个工艺方法应用了等离子体技术()
A.RIEB.MOCVDC.溅射D.LPCVD
单项选择题 实际VPE工艺温度多在质量传递控制区,此时外延速率()
判断题 涂胶前的打底膜是为了增强光刻胶与衬底之间的浸润性。
判断题 实际扩散工艺通过调整炉温比调整扩散时间对结深的影响更大。