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化学制药工艺考试

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填空题

以单一立体异构体存在并且注册的药物,称为()。

【参考答案】

手性药物

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判断题 外消旋化合物的熔点高于它和少量对映体混合物的熔点,但可以高于或低于组成它的纯对映体的熔点。

判断题 由于外消旋混合物是(+)-和(-)-型对映体的等量混合物,所以它的性质在许多方面与其纯对映体相似,如对X-ray衍射图和红外吸收光谱,然而外消旋混合物主要区别是在它们的熔点,像所有典型化合物一样,低于其纯的组分,但溶解度却增大。

判断题 对映体过剩率(ee),定义为在对映体混合物中一个异构体a 比另一个异构体b多出来的量占总量的百分数。其可用来表示一种手性化合物的光学纯度。ee值越高,光学纯度越低。

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