问答题
组成氧化硅的基本单元是什么?他有哪两种主要结构?
基本单元:一个硅原子被四个氧原子包围着的Si—O四面体。在SiO2的四面体......
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问答题 什么是氧化工艺?请说明氧化工艺为什么需要高温技术?
问答题 试说明CMOS工艺在硅片上形成氧化物的主要方法,以及他们间的本质区别。
问答题 CMOS工艺中为什么要形成侧墙?在哪一个工艺环节形成及为什么?并说明其形成步骤及主要作用。