判断题 在半导体生产中，湿法腐蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。

判断题 刻蚀的高选择比意味着只刻除想要刻去的那一层材料。

判断题 刻蚀速率通常正比于刻蚀剂的浓度。