单项选择题
通过监控某一特定谱峰或波长，在预期的刻蚀终点可探测到对应的数据的方法是（）
A.发射光谱法B.干涉测量法C.质量分析法D.椭圆偏振法
单项选择题 反应离子刻蚀的过程简单来说是（）
单项选择题 金属钨在集成电路中通常用于（）
单项选择题 铜电镀之前，需要沿着侧壁和底部，淀积一层连续的薄种子层，若种子层不连续可能导致电镀的铜产生（）
