判断题
冶金结附近的空间电荷是由p型一侧电子和n型一侧空穴的积累引起的。
错误(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)
判断题 P沟道的短沟道MOSFET 更容易发生横向双极击穿。
判断题 MOSFET的沟道夹断总是先于速度饱和发生。
判断题 当硅表面处的少子浓度达到或大于表面多子浓度时,称表面发生了强反型。