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半导体物理

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单项选择题

‏一个理想的MOS电容器,p型Si衬底的掺杂浓度为NA=1.5×1015cm-3。当氧化层厚度为0.1μm时,阈值电压为1.1V,则当氧化层厚度为0.2μm时的阈值电压为()V。

A.0.55
B.2.2
C.2.8
D.1.6

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