单项选择题
液态TEOS源是采用载流气体鼓泡方式携带，例如N2、O2、He，而P1102.TEOS工艺是采用（）进入反应炉。
A.N2B.O2C.HeD.水浴饱和蒸汽
单项选择题 下列哪种工艺会使用到RF？（）
单项选择题 在硅片加工中可以接受的膜，以下不具备需要的膜特征（）
单项选择题 蒸发台以下哪项参数对膜厚影响最大（）
