问答题
CVD法的过程和细节分别是什么?
(1)反应气体向基片表面扩散:(2)反应气体吸附于基片的表面,(3)在基片表面上发生化学反应;......
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问答题 真空蒸镀的形状和必备条件是什么?
问答题 分子外延术的优点是什么?
问答题 简述两个微晶模型。