判断题
如果外延速率偏低,只要增大外延气体中硅源(如SiCl4)浓度,硅的气相外延速率就会增加。
错误(↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)
填空题 拉单晶的干锅污染主要是由于坩埚材料分解出的()造成。
单项选择题 磷在硅熔体与晶体中的分凝系数约为0.35,这使得液相掺杂拉制的掺磷硅锭的电阻率()
判断题 在空间微重力室用CZ法也能拉制出大尺寸优质晶锭。