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集成电路工艺原理

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判断题

硅中的杂质只有一部分被真正激活,并提供用于导电的电子或空穴(大约3%~5%),大多数杂质仍然处在间隙位置,没有被电学激活。

【参考答案】

正确

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判断题 扩散运动是各向同性的。

判断题 扩散率越大,杂质在硅片中的移动速度就越大。

判断题 掺杂的杂质和沾污的杂质是一样的效果。

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