判断题
利用CVD法沉积TiN的最佳温度范围是900~1200℃。
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判断题 TiC在高碳钢、高合金钢上的沉积速度比低碳钢、低合金钢慢。
判断题 化学气相沉积或CVD法是通过气相化学反应在金属表面沉积元素或化合物层的工艺方法。
判断题 离子注人元素受热力学相平衡、固溶度等物理冶金因素的影响。