单项选择题
化学机械抛光中，抛光液的作用是（）
A.与硅片表面材料反应，变成可溶物质或一些硬度过高的物质变化B.向抛光垫施加压力C.将反应生成物从硅片表面去除D.清洗硅片
单项选择题 使用化学机械抛光进行粗抛时抛光区域温度一般控制在（）
单项选择题 （）不是用来测量结深的。
单项选择题 关于两步扩散法，第一步主要控制（）
