填空题
等离子增强反应沉积中，由于等离子体中（）、（）和（）相互碰撞，可以大大降低沉积温度，例如硅烷和氨气的反应在通常条件下，约在850℃左右反应并沉积氮化硅，但在等离子体增强反应的条件下，只需在350℃左右就可以生成氮化硅。
正离子；电子；中性反应分子
填空题 在MOCVD过程中，金属有机源可以在（）或（）作用下，在较低温度沉积出相应的各种无机材料。
填空题 电解槽中的离子导体除常见的电解质溶液外，尚有（）、（）或超临界流体等。
填空题 电极过程大致可分为以下三类：（）、气体电极过程和电解氧化还原。
