black

半导体测试技术

登录

判断题

提高光刻最小线宽可以通过提升介质的介电常数实现。

【参考答案】

正确

相关考题

判断题 MBE只能用于III-V族化合物的生长。

名词解释 等离子体

名词解释 激活剂

All Rights Reserved 版权所有©易学考试网(yxkao.com)

备案号:湘ICP备2022003000号-3