问答题
简答题
磁控溅射具有的两大特点和需要优化的主要实验参数有哪些？
【参考答案】
磁控溅射具有沉积温度低、沉积速率高两大特点。在溅射镀膜过程中，可以调节并需要优化的实验参数有电源功率、工作气体流里和压强......
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