相关考题
-
单项选择题
下面选项属于主扩散的作用有（）。 1.调节表面浓度 2.控制进入硅表面内部的杂质总量 3.控制结深
A.1
B.2
C.3
D.1、3 -
单项选择题
不论正胶或负胶，光刻过程中都包括如下步骤： 1.刻蚀 2.前烘 3..显影 4.去胶 5.涂胶 6.曝光 7.坚膜 以下选项排列正确的是：（）。
A.2561437
B.5263471
C.5263741
D.5263714。 -
单项选择题
半导体器件生产中所制备的二氧化硅薄膜属于（）。
A.结晶形二氧化硅
B.无定形二氧化硅
