欢迎来到易学考试网
易学考试官网
登录
注册
首页
卫生资格(中初级)
医学高级职称
执业医师考试
执业药师考试
医院三基考试
全部科目
>
大学试题
>
工学
>
电子与通信技术
>
集成电路技术
>
集成电路工艺原理
搜题找答案
问答题
简答题
简述光刻工艺步骤。
【参考答案】
涂光刻胶,曝光,显影,腐蚀,去光刻胶。
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
问答题
光刻的作用是什么?列举两种常用曝光方式。
问答题
比较整版掩模和单片掩模的区别,并列举三种掩模的制造方法。
问答题
掩模在IC制造过程中有什么作用?
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题