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单项选择题

半导体三极管工作过程中()。

    A.发射区杂质浓度大于基区杂质浓度;
    B.发射区杂质浓度小于基区杂质浓度;
    C.发射区杂质浓度等于基区杂质浓度;
    D.发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。

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