问答题
简答题
简述常压单晶外延和多晶薄膜沉积装置。
【参考答案】
三种装置不仅可以用于硅外延生长，也较广泛的用于GaAs，AsPAs，GeSi合金和SiC等其它外延层生长；还可用于氧化硅......
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