相关考题
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单项选择题
刻蚀过程中的掩膜材料通常要求（）。
A.耐高温
B.耐刻蚀
C.导电性好
D.以上都是 -
单项选择题
刻蚀机的冷却系统通常采用（）。
A.风冷
B.水冷
C.液氮冷却
D.自然冷却 -
单项选择题
刻蚀过程中的等离子体密度对刻蚀效果的影响是（）。
A.密度越高，刻蚀速率越快
B.密度越高，刻蚀选择性越好
C.密度越高，刻蚀均匀性越差
D.密度越高，刻蚀损伤越大
