相关考题
-
单项选择题
在制作半精密附着体的修复体时，为利于安放附着体的阴性部件，在完成选择合适的半精密体后，在蜡冠上应制备的洞型为（）
A.圆柱型
B.邻柱型
C.棱型
D.箱型
E.鸠尾型 -
单项选择题
常用于上前牙，具有卡环暴露少，义齿就位顺利优点的卡环是（）
A.指状卡环
B.对半卡环
C.双臂卡环
D.小上返卡环
E.对位卡环 -
单项选择题
瓷全冠修复， 要求在各种颌位时都具有足够的修复空间的目的是（）
A.增强瓷全冠的抗折性
B.提高瓷全冠抗腐蚀性能
C.保证瓷全冠应有的强度
D.增强瓷全冠硬度
E.提高瓷全冠生物相容性
