问答题
简答题
简述多晶硅注入的应用
【参考答案】
源漏区注入
该部分的注入工艺其能量相对较低,但剂量属中高范围,一般采用中束流及大束流注入机。
(1)......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
点击查看答案
相关考题
-
问答题
简述离子注入的应用? -
问答题
简述离子注入机的各部分工作原理? -
问答题
简述离子注入掺杂工艺与扩散掺杂工艺的比较
