欢迎来到易学考试网
易学考试官网
登录
注册
首页
卫生资格(中初级)
医学高级职称
执业医师考试
执业药师考试
医院三基考试
全部科目
>
通信电子计算机技能考试
>
半导体芯片制造工
>
半导体制造技术
搜题找答案
问答题
论述题
画出侧墙转移工艺和self-aligned double patterning（SADP）的工艺流程图。
【参考答案】
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
问答题
简述电子束光刻的光栅扫描方法和矢量扫描方法有何区别。
问答题
浸没式光刻机相对于传统的光刻机有何不同。
问答题
什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应？如何解决？
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题
