单项选择题
Al-Zn-Mg-Cu系列铝合金在人工时效处理后,晶界会析出MgZn2,则()。
A.晶间的沉积物MgZn2电位最高,腐蚀沿着晶界进行。
B.晶间的沉积物MgZn2电位最高,腐蚀沿着晶间进行。
C.晶间的沉积物MgZn2电位最低,腐蚀沿着晶界进行。
D.晶间的沉积物MgZn2电位最低,腐蚀沿着晶间进行。
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单项选择题
Al-Cu系列铝合金在时效硬化处理时,晶间会沉淀出CuAl2,则()。
A.在晶粒边界形成富铜区,电位最低
B.在晶粒边界形成富铜区,电位最高
C.在晶粒边界形成贫铜区,电位最低
D.在晶粒边界形成贫铜区,电位最高 -
单项选择题
下列说法中()。 (1)金属发生点腐蚀的环境是有某种氧化剂和活性离子存在的溶液。 (2)点蚀孔不会从板的下表面向上扩展。
A.(1)对(2)错
B.(1)错(2)对
C.全对
D.全错 -
单项选择题
霉菌最理想的繁殖温度是()。
A.0~5℃
B.10~15℃
C.25~35℃
D.45~50℃