单项选择题
A1/A2型题
金瓷基底冠进行氧化处理时，理想的氧化层应为多厚（）
A.0.05～0.1μm
B.0.1～0.2μm
C.0.2～2μm
D.2～2.5μm
E.2.5～3μm
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单项选择题
金瓷基底冠桥进行氧化，是在除气的基础上再加热。至预定终点温度时在非真空状态下应继续维持（）
A.1～2分钟
B.3～5分钟
C.5～10分钟
D.10～12分钟
E.12～15分钟 -
单项选择题
金属基底冠桥粗化处理时，用何种氧化铝砂喷砂处理（）
A.15～25μm
B.25～35μm
C.35～50μm
D.50～100μm
E.100～120μm -
单项选择题
贵金属烤瓷金属基底冠桥，用何种氧化铝砂作喷砂处理（）
A.15～25μm
B.25～35μm
C.35～50μm
D.50～100μm
E.100～120μm
