欢迎来到易学考试网
易学考试官网
登录
注册
首页
卫生资格(中初级)
医学高级职称
执业医师考试
执业药师考试
医院三基考试
全部科目
>
通信电子计算机技能考试
>
半导体芯片制造工
>
半导体制造技术
搜题找答案
问答题
论述题
个投影曝光系统采用ArF光源,数值孔径为0.6,设k1=0.6,n=0.5,计算其理论分辨率和焦深。
【参考答案】
分辨率:
焦深:
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
问答题
在光刻中,能够在增加分辨率的同时增加聚焦深度吗?为什么?
问答题
根据曝光方式的不同,光学光刻机可以分成几类?各有什么优缺点?
问答题
在干法刻蚀的终点检测方法中,光学放射频谱分析法最常见,简述其工作原理和优缺点。
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题