欢迎来到易学考试网 易学考试官网
全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 微电子学

问答题

简答题

实用的等离子体刻蚀工艺必须满足哪些条件?

    【参考答案】

    1.反应产物是挥发性的;
    2.选择比率高;
    3.刻蚀速率快;
    4.具有好的终点灵敏性;
    5.有好的各向异性刻蚀速率。

    点击查看答案
    微信小程序免费搜题
    微信扫一扫,加关注免费搜题

    微信扫一扫,加关注免费搜题