问答题
简述离子注入的优缺点
优点：精确控制杂质含量、很好的杂质均匀性、对杂质穿透深度有很好的控制、产生单一离子束、低温工艺、注入的离子能穿过薄膜、无......
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问答题 简述热扩散的三个步骤，以及它们的作用
问答题 简述掺杂的两种方法
问答题 氧化层在芯片制备中有哪几方面的应用？
