问答题
亚微米CMOS IC制造厂可分为哪六种独立的生产区？
A.扩散（包括氧化、膜淀积和掺杂工艺） B.光刻 C.刻蚀 D.薄膜 E.离子注入 F.抛光
问答题 简述IC制造中一般采用的三种外延方法
问答题 简述HPCVD工艺的五个步骤
问答题 化学气相淀积（CVD）的概念，有哪五种基本化学反应？
