问答题
简述HPCVD工艺的五个步骤
（1）离子诱导淀积：指离子被托出等离子体并淀积形成间隙填充的现象（2）溅射刻蚀：具有一定能量的Ar和因为硅片......
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问答题 化学气相淀积（CVD）的概念，有哪五种基本化学反应？
问答题 简述淀积膜的过程的三种不同阶段
问答题 简述湿法腐蚀相比干法刻蚀的优点
