问答题
简述干法刻蚀的应用
介质——氧化物和氮化硅 硅——多晶硅栅和单晶硅槽 金属——铝和钨
问答题 简述负载和微负载效应的概念
问答题 简述刻蚀的概念及其基本目的
问答题 简述反射切口、驻波的概念、抗反射涂层的作用
