问答题
简述刻蚀的概念及其基本目的
概念：用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程基本目的：在涂胶的硅片上正确地复制掩模图形&e......
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问答题 简述反射切口、驻波的概念、抗反射涂层的作用
问答题 简述正胶和负胶显影效果
问答题 简述光刻胶的概念及目的
