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集成电路技术综合练习

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单项选择题

通常被用于深紫外光刻胶的准分子激光器的光源材料是()

A.KrF
B.F2
C.ArF
D.XeF

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单项选择题 脱水烘烤是在()的氛围中进行烘烤。

单项选择题 ()不是光刻的曝光方式。

单项选择题 投影式曝光的优势是()

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