单项选择题
离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的()。
A.能量 B.剂量
单项选择题 离子注入层的深度主要取决于离子注入的()。
多项选择题 硅外延片的应用包括()。
多项选择题 硅外延生长工艺包括()。