判断题 利用CVD法沉积TiN的最佳温度范围是900～1200℃。

判断题 TiC在高碳钢、高合金钢上的沉积速度比低碳钢、低合金钢慢。

判断题 化学气相沉积或CVD法是通过气相化学反应在金属表面沉积元素或化合物层的工艺方法。