判断题
APCVD成膜速度快,可用于制备较厚的薄膜。
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判断题 CVD常用于淀积介质薄膜。
判断题 VPE过程其实就是一种CVD的过程。
判断题 CVD淀积二氧化硅的原理跟热氧化相同。