问答题
源/漏极(source/drain)的形成步骤可分为那些?
①LDD的离子注入（Implant）；②Spacer的形成；③N+/P+IMP高浓度源/漏极（S/D......
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问答题 何谓 Gate oxide （栅极氧化层）？
问答题 Poly（多晶硅）栅极的刻蚀（etch）要注意哪些地方？
问答题 Poly（多晶硅）栅极形成的步骤大致可分为那些？
