填空题
西门子法的工艺的制备温度需要在()℃左右。
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填空题 在西门子法中需要对高纯的SiHCl3进行提纯,该提纯工艺是通过温度控制使混合在SiHCl3中的不同的()蒸发的工艺,也称()。
填空题 西门子法中用干燥的()与工业硅粉反应,制备()。
填空题 将()用焦炭在炭电极的电弧炉中还原,可制取工业硅。