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单项选择题
PHOTO工程曝光机设备构造中，不包含的是（）
A.照明光学系
B.投影光学系
C.MASK STAGE
D.除震系统 -
单项选择题
在Gate Step中，得到Gate Pattern的顺序是（）
A.Cleaning->Gate Depo->Photo->WET Etch
B.Cleaning->Gate Depo->Photo->DRY Etch
C.Gate Depo->Cleaning->Photo->WET Etch
D.Cleaning->Photo->Gate Depo->WET Etch -
单项选择题
PHOTO设备中VCD的作用是（）
A.涂布光刻胶
B.清洗glass基板
C.加热干燥，去除光刻胶里面的solvent
D.真空干燥，去除光刻胶里面的solvent
