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判断题
20世纪90年代初期使用的第一台CMP设备是用样片估计抛光时间来进行终点检测的。
【参考答案】
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判断题
CMP带来的一个显著的质量问题是表面微擦痕。小而难以发现的微擦痕导致淀积的金属中存在隐藏区,可能引起同一层金属之间的断路。
判断题
在CMP设备中被广泛采用的终点检测方法是光学干涉终点检测。
判断题
电机电流终点检测不适合用作层间介质的化学机械平坦化。
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