欢迎来到易学考试网 易学考试官网
全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 集成电路技术 > 集成电路工艺原理

判断题

CMP带来的一个显著的质量问题是表面微擦痕。小而难以发现的微擦痕导致淀积的金属中存在隐藏区,可能引起同一层金属之间的断路。

    【参考答案】

    正确

    (↓↓↓ 点击‘点击查看答案’看答案解析 ↓↓↓)

    点击查看答案&解析
    微信小程序免费搜题
    微信扫一扫,加关注免费搜题

    微信扫一扫,加关注免费搜题