单项选择题
浸入式光刻技术可以使193nm光刻工艺的最小线宽减小到45nm以下。它通过采用折射率高的液体代替透镜组件间的空气，达到（）的目的。
A.增大光源波长；
B.减小光源波长；
C.减小光学系统数值孔径；
D.增大光学系统数值孔径。
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单项选择题
如果淀积的膜在台阶上过度地变薄，就容易导致高的膜应力、电短路或者在器件中产生不希望的（）。
A. 诱生电荷
B. 鸟嘴效应
C. 陷阱电荷
D. 可移动电荷 -
多项选择题
采用二氧化硅薄膜作为栅极氧化层，是利用其具有的（）
A.高电阻率；
B.高化学稳定性；
C.低介电常数；
D.高介电强度。 -
单项选择题
微电子器件对加工环境的空气洁净度有着严格的要求。我国洁净室及洁净区空气中悬浮粒子洁净度标准GB50073-2001中，100级的含义是：每立方米空气中大于等于0.1m的悬浮粒子的最大允许个数为（）
A.35；
B.100；
C.102；
D.237。
