填空题
光刻工艺的分辨率决定于：（）和曝光、显影、刻蚀条件的正确控制。正胶的分辨率（）于负胶的分辨率；光刻胶越薄，分辨率越（）。
【参考答案】
光刻机的分辨率、光刻胶的种类、光刻胶的厚度、光刻胶的对比度；高；高
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填空题
光刻机的分辨率、光刻胶的种类、光刻胶的厚度、光刻胶的对比度；高；高
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