填空题
设计与生产一种最简单的硅双极型PN结隔离结构的集成电路，需要（）、（）、（）、（）、（）、（）等六次光刻。
【参考答案】
埋层光刻；隔离光刻；基区光刻；发射区光刻；引线区光刻；反刻铝电极
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填空题
埋层光刻；隔离光刻；基区光刻；发射区光刻；引线区光刻；反刻铝电极
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