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判断题
高密度等离子体刻蚀机是为亚0.25微米图形尺寸而开发的最重要的干法刻蚀系统。
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判断题
与干法刻蚀相比,湿法腐蚀的好处在于对下层材料具有高的选择比,对器件不会带来等离子体损伤,并且设备简单。
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在刻蚀中用到大量的化学气体,通常用氟刻蚀二氧化硅。
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