问答题
解释PECVD沉积过程的两种模型。
（1）光和团簇助化学气相沉积，其沉积率为6nm/min，这里等离子体和基片不接触。（2）等离子体助化学气相沉......
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问答题 紫外线光致分解沉积系统的优点是什么？
问答题 限制激光化学气相沉积沉积率的参数主要有哪些？
问答题 激光化学气相沉积的反应系统和传统化学气相沉积系统相似，但薄膜的生长特点在许多方面是不同的，这其中的主要原因是什么？
