填空题
西门子法中通常用（）还原（），生成多晶硅沉积在（）上。
高纯氢；高纯三氯氢硅；硅芯
填空题 西门子法的工艺的制备温度需要在（）℃左右。
填空题 在西门子法中需要对高纯的SiHCl3进行提纯，该提纯工艺是通过温度控制使混合在SiHCl3中的不同的（）蒸发的工艺，也称（）。
填空题 西门子法中用干燥的（）与工业硅粉反应，制备（）。
