多项选择题
从两电极面积判断射频溅射时,靶放在那个电极上、衬底放在那个电极上()
A.衬底放在面积大的电极上B.靶放在面积大的电极上C.衬底放在面积小的电极上D.靶放在面积小的电极上
单项选择题 为了避免尖楔现象用含1%硅的硅铝合金制备IC内电极,多采用下列哪种工艺方法()
单项选择题 poly-Si薄膜通常是采用什么方法制备的()
单项选择题 LPCVD-SiO2,将工艺控制在较高温度,有:ks>hg,此时淀积速率的特点为()